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電子半導(dǎo)體用純水設(shè)備

在晶體管、集成電路生產(chǎn)中，純水主要用于清洗硅片，清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì)，包括有機(jī)物和無機(jī)物，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產(chǎn)過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介 / Introduction

電子半導(dǎo)體行業(yè)用純水設(shè)備

河南萬達(dá)環(huán)保生產(chǎn)的超純水設(shè)備專用于硅片生產(chǎn)等電子半導(dǎo)體行業(yè)，能滿足客戶的用水要求

產(chǎn)品參數(shù) / parameter

電導(dǎo)率	2-10μS/cm（25℃）	PH值	6.5－9	水溫度	5～35℃
總硬度	<0.5ppm	有機(jī)物	<0.5 ppm,TOC為零	氧化物	≤0.05ppm
鐵、錳	<0.01ppm	二氧化硅	<0.05 ppm	二氧化碳	<5ppm

產(chǎn)品特點(diǎn) / Features

電子半導(dǎo)體行業(yè)用純水設(shè)備

01
連續(xù)運(yùn)行產(chǎn)水質(zhì)穩(wěn)定品質(zhì)更佳。
02
系統(tǒng)運(yùn)行可靠性穩(wěn)定。
03
運(yùn)行成本低。
04
占地面積小。
05
自動(dòng)化程度高。
06
操作及維護(hù)簡(jiǎn)單，無需接觸酸堿。
07
使用安全及環(huán)境良好。
08
無污水排放，無環(huán)境污染。

工藝流程 / Process

設(shè)備工藝（一）

原水 01
原水加壓泵 02
多介質(zhì)過濾器 03
活性炭過濾器 04
加藥裝置 05
精密過濾器 06
高壓泵1 07
級(jí)反滲透 08
中間水箱 09
高壓泵2 10
二級(jí)反滲透 11
純化水箱 12
純水泵 13
紫外線殺菌器 14
微孔過濾器 15
用水點(diǎn) 16

設(shè)備工藝（二）

原水 01
原水加壓泵 02
多介質(zhì)過濾器 03
活性炭過濾器 04
加藥裝置 05
精密過濾器 06
高壓泵1 07
級(jí)反滲透 08
中間水箱 09
中間水泵 10
EDI系統(tǒng) 11
純化水箱 12
純水泵 13
紫外線殺菌器 14
微孔過濾器 15
用水點(diǎn) 16

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